Рентгеновская пленка FUJIFILM
 |
Компания Fujifilm разработала революционную новую технологию создания рентгеновской пленки. Сочетание новейших достижений в области изготовления эмульсии и компьютеризированного производственного процесса гарантирует стабильность и эффективность каждой партии, оптимальное качество изображения, совместимость с химикатами для неразрушающего контроля и актуальными условиями обработки в резервуаре/автоматической системе.
Пленки Fujifilm сочетают в себе уникальные характеристики чувствительности и зернистости и могут использоваться в самых разных областях при стабильно высоком качестве вне зависимости от исследуемого материала и источника излучения.
Высокое качество изображения
Благодаря мелкому зерну пленки FUJIFILM IX сильно упрощают поиск дефектов.
Неизменная эффективность
По соответствию качества разных партий пленки Fujifilm являются одними из лучших в отрасли. Соответственно, характеристики экспозиции при съемке различных деталей не меняются, и эффективность процесса повышается.
Меньшее расхождение в плотности
Эмульсия наносится на пленки Fujifilm настолько равномерным слоем, что расхождение в плотности, которое иногда отмечается при автоматической обработке других пленок, практически отсутствует.
Выпускается восемь типов пленок Fujifilm IX с 5-минутной обработкой в различной упаковке, пригодной для любых задач в области неразрушающего контроля.
Срок годности
Рентгеновской пленки и химических реактивов для проявки составляет
3 года.
| 
Надежда Курлыкина
Начальник отдела рентгеновского оборудования: консультации, подготовка коммерческих предложений и контрактов.
E-mail: kurlykna@ndt-is.ru | | Пленка | Относительная чувствительность | Класс системы пленки | Возможные варианты упаковки | | 100 кВ прямое | 200 кВ со свинцом | lr-192 со свинцом | Co-60 со свинцом | ASTM E1815-96 | ISO 11699-1 | JIS K7627 | | IX20 | 10 | 9 | 8 | 5 | – | – | – | Листы: без прослоек | | IX25 | 20 | 17 | 15 | 10 | SPEСIAL | C1 | T1 | Листы: без прослоек, Envelopak, Envelopak+Pb | | IX50 | 35 | 30 | 30 | 30 | I | C3 | T2 | Листы: с/без прослоек, Envelopak, Envelopak+Pb
Рулон: Envelopak+Pb | | IX80 | 55 | 55 | 55 | 55 | I | C4 | T2 | Листы: с/без прослоек, Envelopak, Envelopak+Pb
Рулон: без прослоек, Envelopak, Envelopak+Pb | | IX100 | 100 | 100 | 100 | 100 | II | C5 | T3 | Листы: с/без прослоек, Envelopak, Envelopak+Pb
Рулон: без прослоек, Envelopak+Pb | | IX150 | 200 | 200 | 170 | 170 | III | C6 | T4 | Листы: с прослойкой, без прослоек | | IX29 | 22 | 22 | 22 | 22 | W-A | – | W-A | Листы: без прослоек | | IX59 | 45 | 45 | 45 | 45 | W-B | – | W-B | Листы: без прослоек, Envelopak
Рулон: Envelopak | | Пленка | Область применения | Характеристики | | IX20 | Микроэлектронные детали Нейтронная радиография Важнейшие прецизионные отливки Исключительно мелкие керамические детали Композитные углепластиковые детали | Пленка с одним слоем эмульсии, исключительно мелким зерном и средне-высокой контрастностью, предназначенная для областей применения, где необходимы качественные изображения. Один слой эмульсии сводит параллакс к минимуму и дает исключительно резкий вид с увеличением. IX20 обычно используется вместе с прямым экспонированием или свинцовыми экранами | | IX25 | Микроэлектронные детали Мелкие керамические детали Отливки: металлы с небольшим или средним атомным числом Области применения, требующие максимальной контрастности Рентгеновское облучение с высоким выходом и сверхвысоким напряжением | Специальная пленка ASTM Fujifilm с самым мелким зерном и максимальной резкостью и разрешением. Подходит для исследования новых материалов, например, углепластиков, керамических изделий и микроэлектронных деталей. IX25 обычно используется вместе с прямым экспонированием или свинцовыми экранами IX25 рекомендуется обрабатывать только автоматически | | IX50 | Электронные детали Углепластиковые композиты Экспозиция с изотопами с высоким значением в кюри Отливки: металлы с небольшим или средним атомным числом | Пленка ASTM класса I с исключительно мелким зерном и высокой контрастностью, исключительной резкостью и разрешением. Подходит для исследования любых материалов с низким атомным числом, где необходимо получить очень детальное изображение. Благодаря исключительно мелкому зерну очень подходит для областей с большой энергией, с низкой контрастностью объекта, где изо топы с высоким значением в кюри или мощные рентгеновские установки допускают ее использование. Продемонстрирован широкий диапазон экспозиции в областях с высокой контрастностью объекта. IX50 обычно используется вместе с прямым экспонированием или свинцовыми экранами | | IX80 | Сварные швы: металлы с небольшим или средним атомным числом Отливки: металлы с небольшим или средним атомным числом Производство и обслуживание самолетов Углепластиковые композиты | Пленка ASTM класса I с исключительно мелким зерном и высокой контрастностью подходит для обнаружения мелких дефектов. Она пригодна для исследования материалов с низким атомным числом с помощью источников рентгеновского излучения низкого напряжения в кВ, а также для исследования материалов с более высоким атомным числом с помощью источников рентгеновского или гамма-излучения с высоким напряжением в кВ. Продемонстрирован широкий диапазон экспозиции в областях с высокой контрастностью объекта. IX80 обычно используется вместе с прямым экспонированием или свинцовыми экранами
| | IX100 | Сварные швы: металлы со средним или высоким атомным числом Отливки: металлы со средним или высоким атомным числом Производство и обслуживание самолетов Проверка артиллерии | Пленка с очень мелким зерном и высокой контрастностью ASTM класса II подходит для исследования легких металлов с помощью слабоактивных источников излучения и для исследования толстых, плотных образцов с помощью источников рентгеновского или гамма-излучения с высоким напряжением в кВ. Продемонстрирован широкий диапазон экспозиции в областях с высокой контрастностью объекта. Хотя пленку IX100 обычно используют вместе с прямым экспонированием или свинцовыми экранами, она пригодна для работы с флуоресцентными или флуорометаллическими экранами. | | IX150 | Тяжелые, многослойные стальные детали Бетон со стальной арматурой Экспонирование с изотопами с низким значением в кюри и слабым рентгеновским излучением | Высокочувствительная пленка с мелким зерном и высокой контрастностью ASTM класса III подходит для проверки самых разных образцов с помощью источников рентгеновского и гамма-излучения с низким и высоким напряжением в кВ. Она особенно полезна в том случае, если высокоактивный источник гамма-излучения недоступен, или при проверке очень толстых образцов. Кроме того, она применяется при использовании преломления рентгеновского излучения. IX150 используется вместе с прямым экспонированием или свинцовыми экранами | | IX29 | Отливки и прочие объекты разной толщины | Пленка с исключительно мелким зерном и средне-высокой контрастностью ASTM класса W-A подходит для проверки объектов самой разной толщины (например, прецизионных отливок) с помощью источников рентгеновского или гамма-излучения. IX29 можно использовать вместе с прямой экспозицией или свинцовыми экранами
| | IX59 | Отливки и прочие объекты разной толщины | Пленка с исключительно мелким зерном и средней контрастностью ASTM класса W-B подходит для проверки металлических и стальных литых деталей разной толщины с низким атомным числом. IX59 можно использовать вместе с прямым экспонированием или свинцовыми экранами
|
|
